常規(guī)真空工藝對環(huán)境的要求
所謂常規(guī)真空工藝系指沒有特殊要求的真空工藝過程，這類真空裝置（設(shè)備）對真空衛(wèi)生的要求：
（1）凡是處于真空中的真空設(shè)備零件，都要求無積存的污染源，表面無塵埃，無鐵屑、無銹蝕；
（2）真空設(shè)備的真空室表面要光滑、無松軟組織和氣孔、無內(nèi)焊縫等影響真空的缺陷；
（3）高真空設(shè)備中，真空室內(nèi)的運動部件不得用機油作潤滑劑，要用飽和蒸氣壓低的擴散泵油、硅油作潤滑劑；法蘭、觀察窗的密封部件要涂以高真空油脂；
（4）真空設(shè)備一般應(yīng)在溫度為15～30℃，相對濕度不高于70%的清潔空氣流通的環(huán)境中工作，冷卻水進水溫度不高于25 ℃。
電真空工藝對環(huán)境的要求
電真空結(jié)構(gòu)材料除具有良好的機械性能和加工性能外，還要滿足其他性能的要求，即容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學(xué)穩(wěn)定性、一定的純度和清潔度、合適的輻射能力等。所以電真空工藝具有特殊性，對清潔處理要求是極為嚴格的，應(yīng)最大限度清除或減少零件的污染。
真空鍍膜工藝對環(huán)境的要求
真空鍍膜工藝襯底（基片）表面的清潔處理很重要，基片進入鍍膜室前均應(yīng)進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物；零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜；零件表面吸收和吸附的氣體。這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清洗方法將其去掉。 |
