GB/T 18193-2000 真空技術(shù) 質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)(1)

GB/T 18193-2000 真空技術(shù) 質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)(1)

GB/T 18193—2000 真空技術(shù) 質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)

Vacuum technology一Mass-spectrometer-type leak detector calibration

GB/T 18193—2000 真空技術(shù) 質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)等同采用ISO 3530:1979《真空技術(shù)質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)》，在技術(shù)內(nèi)容上與該國際標(biāo)準(zhǔn)等效。但是考慮到我國標(biāo)準(zhǔn)本身的特點(diǎn)及漢語的表述習(xí)慣，使該標(biāo)準(zhǔn)既與國際標(biāo)準(zhǔn)接軌，又適合我國的國情，為此，對(duì)ISO 3530:1979標(biāo)準(zhǔn)的個(gè)別內(nèi)容作了編輯性修改。

GB/T 18193—2000 真空技術(shù) 質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)規(guī)定了質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)的使用程序，即測(cè)定質(zhì)譜檢漏儀靈敏度。但該程序需要使用的一個(gè)校準(zhǔn)漏孔和一種標(biāo)準(zhǔn)的氣體混合物，不在這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的范圍內(nèi)。質(zhì)譜檢漏儀以下簡(jiǎn)稱“檢漏儀”。檢漏儀用于機(jī)械孔(如針孔)的漏量和通過許多聚合材料而發(fā)生的漏氣的探測(cè)。那些表面解吸、氣化和氣穴的虛漏，一般不能用檢漏儀探測(cè)。

漏率校準(zhǔn)范圍限制在一個(gè)規(guī)定的水平，因?yàn)閷?duì)于較大泄漏這個(gè)因素是不重要的，而對(duì)于漏率小于10-,z Pa " m' " s-，的泄漏，這個(gè)因素就變得重要了。檢漏儀檢驗(yàn)的對(duì)象可以在高真空條件下或者高于大氣壓下。一般在兩種情況下檢漏技術(shù)將不同。在第一種情況下，檢漏儀通常在接近它的低的極限壓力下進(jìn)行工作;在第二種情況下，檢漏儀常被使用在其最大或接近最大工作壓力。對(duì)應(yīng)于這兩個(gè)工作條件，兩個(gè)靈敏度術(shù)語定為:“最小可檢漏率”和“最小可檢濃度比”(見本標(biāo)準(zhǔn)第2章)。

這樣定義的兩個(gè)量是有關(guān)系的，但是，從一個(gè)數(shù)據(jù)去算得另一個(gè)數(shù)據(jù)不可行。因此規(guī)定了測(cè)定兩者的方法。

GB/T 18193—2000質(zhì)譜檢漏儀校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)用在真空技術(shù)領(lǐng)域中是一系列泄漏試驗(yàn)程序和裝置標(biāo)準(zhǔn)之一。應(yīng)用分類:氣密性、檢漏儀校準(zhǔn)、漏孔的校準(zhǔn)、氣體混合物、檢漏儀驗(yàn)收規(guī)范和真空設(shè)備的氣密檢驗(yàn)的一般程序。

上述應(yīng)用分類中的一些項(xiàng)構(gòu)成將來標(biāo)準(zhǔn)的課題。

范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了質(zhì)譜檢漏儀的校準(zhǔn)程序它僅適用于校準(zhǔn)將靈敏元件處于高真空系統(tǒng)中的檢漏儀。因此這個(gè)方法沒有制訂完整的驗(yàn)收試驗(yàn)。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定探索氣體使用氦一4。但在適當(dāng)?shù)念A(yù)防措施下，可以使用其他探索氣體，如氫-400

本標(biāo)準(zhǔn)的應(yīng)用受到檢漏儀不能測(cè)定小于10-" Pa "m'"s-'漏率漏孔限制。

本標(biāo)準(zhǔn)程序提出了測(cè)定最小可檢漏率和最小可檢濃度比的兩個(gè)要點(diǎn)。它分別應(yīng)用于高真空和壓力大于一個(gè)大氣壓的檢漏儀上。

定義

本標(biāo)準(zhǔn)采用下列定義。

2.1本底(或殘余信號(hào))background(or residual signal)

2.1.1本底background

沒有注人探索氣體時(shí)，檢漏儀給出的總的假象指示(本底發(fā)生在質(zhì)譜管中或在電極電子系統(tǒng)中或同時(shí)發(fā)生在兩者中。由于離子不同于注人探索氣體所產(chǎn)生的離子，所以該術(shù)語習(xí)慣稱為指示)。

2.1.2 漂移drift

本底較緩慢的改變。有效的參量是在規(guī)定的期間內(nèi)測(cè)得的最大漂移。

2.1.3 噪聲noise

本底比較快地改變。有效的參量是在規(guī)定的期間內(nèi)測(cè)得的噪聲。

2. 1.4 氦本底helium background

由檢漏儀壁或檢漏系統(tǒng)釋放出氦所造成的本底。

2. 2 元件components

2.2. 1 人CI管路或試樣人口管路inlet line or sample inlet line

探索氣體從試驗(yàn)件流到檢漏儀經(jīng)過的管路

2.2.2 人口閥inlet valve

連接試樣與檢漏儀的閥門(見圖1)，它是檢漏儀的主要部件。

2. 2. 3 漏孔隔離閥leak isolation valve

安裝在試驗(yàn)檢漏儀所用的漏孔和試樣人口管路之間的閥門(見圖1)0

2. 2.4 抽氣閥pump valve

安裝在抽空試樣人口管路使用的粗抽泵和管路之間的閥(見圖1),

2.2. 5 放氣 vent valve

用來引進(jìn)空氣或其他氣體進(jìn)人抽空的空問·以使那里壓力增加到大氣壓的一個(gè)閥門(見圖1)0

2.2. 6 補(bǔ)償控制:調(diào)零控制backing-off control, zero control

檢漏儀中的一種電控制，它可以改變儀表的輸出指示。當(dāng)補(bǔ)償控制用于使輸出指示返回到刻度盤的零時(shí)也可稱為調(diào)零控制。

2.2.7 質(zhì)譜管mass spectrometer tube

它是檢漏儀的一個(gè)元件，探索氣體在質(zhì)譜管內(nèi)被電離并被測(cè)定。

2.2.8 陰極filament

安裝在質(zhì)譜管內(nèi)用于電離氣體的(熱的)電子源。

2.3探索氣體search gas

在真空測(cè)試中，作用在被檢設(shè)備外表面通過漏孔進(jìn)人設(shè)備或在高于一個(gè)大氣壓測(cè)試中，充人被檢設(shè)備后通過漏孔逸出而進(jìn)行探測(cè)的氣體。

2.4 漏孔leaks

2.4.1 漏孔leak

在真空技術(shù)中是一個(gè)孔洞、孔隙、滲透因素或一個(gè)封閉器壁上的其他結(jié)構(gòu)在壓力或濃度差作用下，使氣體從器壁的一側(cè)到另一側(cè)。也可以是一個(gè)可用于向真空系統(tǒng)引人氣體的裝置。

2.4.2 通道漏孔channel leak

可以把它理想地當(dāng)做長(zhǎng)毛細(xì)管的一個(gè)或多個(gè)不連續(xù)通道組成的漏孔。

2.4.3薄膜漏孔membrane leak

允許氣流通過或滲透穿過無孔壁的一種漏孔。對(duì)于氦，這種壁可以是玻璃、石英或其他適合的材料。